蝕刻的工藝流程與操作條件
通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。下面小編分享關(guān)于蝕刻的工藝流程與操作條件的內(nèi)容，歡迎閱讀！
蝕刻的工藝流程：
曝光法：工程根據(jù)圖形開(kāi)出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網(wǎng)印法：開(kāi)料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK
蝕刻優(yōu)版： 采用噴墨打印技術(shù)將抗腐蝕墨水打印到材料表面，再經(jīng)過(guò)固化（一般是用光固化也有用熱固化）即可獲得抗腐蝕層然后可以進(jìn)行下一步化學(xué)腐蝕或者電腐蝕。
蝕刻的工藝操作條件：
蝕刻是金屬板模圖紋裝飾過(guò)程中的關(guān)鍵，要想得到條紋清晰、裝飾性很強(qiáng)的圖紋制品，必須注意控制好蝕刻工藝的條件。主要是蝕刻溶液的溫度和蝕刻時(shí)間。溶液溫度稍高，可以提高金屬溶解的速度，也就是蝕刻的速度，縮短蝕刻所需要的時(shí)間，但是蝕刻溶液一般都是強(qiáng)酸液，強(qiáng)酸液在溫度高的情況下腐蝕性強(qiáng)，容易使防護(hù)的涂層或耐蝕油墨軟化甚至溶解，使金屬非蝕刻部位的耐蝕層附著力下降，導(dǎo)致在蝕刻和非蝕刻交界處的耐蝕涂層脫落或溶化，使蝕刻圖紋模糊走樣，影響圖紋的美觀真實(shí)和裝飾效果，因此溫度不宜超過(guò)45℃。
同樣，如果蝕刻的時(shí)間太長(zhǎng)，特別是蝕刻液溫度較高的情況下，耐蝕油墨或防護(hù)涂層浸漬時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，也同樣起到上述的副作用和不良后果，因此時(shí)間控制上也要適當(dāng)，不能浸得太久，一般不宜超過(guò)20～25min。
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